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                                                                              電子半導體超純水系統

                                                                              作者:admin   發布于:2008-10-26

                                                                               

                                                                              超純水技術的發展主要是隨著半導體技術發展起來,隨著半導體大規模集成電路、8吋、12吋晶圓的運用,對超純水技術的要求

                                                                               

                                                                              愈加嚴格,不僅僅限于電阻率18.1MΩ.cm at 25 甚至18.2MΩ.cmTOC、DO、SiO2、Particle、各種離子指標也有更高的

                                                                               

                                                                              要求。


                                                                               

                                                                               常規水質指標:

                                                                               

                                                                              電阻率:18.1MΩ.cm at 25

                                                                               

                                                                              TOC:   5 ppb

                                                                               

                                                                              顆粒:(0.1um):5 pcs/mL

                                                                               

                                                                              SiO22 ppb

                                                                               

                                                                              DO5 ppb

                                                                               

                                                                              Na+50 ppt

                                                                               

                                                                              細菌:1 cfu/L


                                                                               

                                                                               

                                                                              工藝流程:

                                                                               

                                                                               

                                                                              MMF+ACF(或:前處理UF)+Double Pass RO+TOC UV1+DO1+EDI+ TOC UV2+ DO2+Polisher 1+Polisher 2 +UF

                                                                               

                                                                               

                                                                               

                                                                               

                                                                               

                                                                               

                                                                              版權所有Copyright 2013-2014 南京康淳水處理科技有限公司
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